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紫旸升光电(淄博)第一阶段设备采购变更公告[更正公告]

所在地区: 山东-淄博-高新区 发布日期: 2021年6月4日
变更公告正文

紫旸升光电(淄博)第一阶段设备采购

变更公告

一、项目基本情况

原公告的采购项目编号:(略)

原公告的采购项目名称:(略)

首次公告日期:(略)

二、更正信息

1、项目基本情况中

原内容:

预算金额:(略)

最高限价:(略)

变更为:

预算金额:(略)

最高限价:(略)

2、获取招标文件时间

原内容:

(略)年(略)月(略)日8:(略)

变更为:

(略)年(略)月(略)日8:(略)

3、提交投标文件截止时间

原内容:

(略)年(略)月(略)日(略)点(略)分。

变更为:

(略)年(略)月(略)日(略)点(略)分

4、招标文件第三部分-招标项目内容及要求

原内容:

一、采购说明

包1光刻、涂胶及镀膜设备,采购预算:(略)

二、项目背景购设备清单及技术参数

包1光刻、涂胶及镀膜设备,采购预算:(略)

序号

设备

技术参数

单位

数量

名称

配置要求

工艺要求

1

☆8寸圆形玻璃衬底片光刻匀胶显影机

1.设备尺寸要求:(略)

1.Particle:(略)

1

3

☆8寸I线 光刻曝光机

1.设备尺寸要求:(略)

1.Particle:(略)

2

6

☆电极金属真空溅射镀膜设备

1、设备要求:(略)

1、钛镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 1-1、钛片阻 ≤ (略).8Ω/sq 1-2、钛片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 1-3、钛片间均匀性 ≤ 3.0% 2、镍镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 2-1、镍片阻 ≤ 2.3/sq 2-2、镍片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 2-3、镍间均匀性 ≤ 3.0% 3、铟锡镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 3-1、铟锡片阻 ≤ 3.8Ω/sq 3-2、铟锡片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 3-3、铟锡片间均匀性 ≤ 3.0% 4、 金镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 4-1、金片阻 ≤ 2.7Ω/sq 4-2、金片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 4-3、金片间均匀性 ≤ 3.0%

1

包2干法刻蚀设备/干法去胶设备,采购预算:(略)

序号

设备

技术参数

单位

数量

名称

配置要求

工艺要求

4

干法去胶 设备

1、设备要求:(略)

1、去胶速率 >(略),(略)?/min; 2、片内均匀性 ≤ 5.0%; 片间均匀性 ≤ 5.0%; 批间均匀性 ≤ 5.0%;

1

变更为:

包1光刻、涂胶及镀膜设备,采购预算:(略)

二、项目背景购设备清单及技术参数

包1光刻、涂胶及镀膜设备,采购预算:(略)

序号

设备

技术参数

单位

数量

名称

配置要求

工艺要求

1

☆8寸圆形玻璃衬底片光刻匀胶显影机

1.设备尺寸要求:(略)

1.Particle:(略)

1

3

☆8寸I线 光刻曝光机

1.设备尺寸要求:(略)

1.Particle:(略)

1

6

☆电极金属真空溅射镀膜设备

1、设备要求:(略)

1、钛镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 1-1、钛片阻 ≤ (略).8Ω/sq 1-2、钛片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 1-3、钛片间均匀性 ≤ 3.0% 2、镍镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 2-1、镍片阻 ≤ 2.3/sq 2-2、镍片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 2-3、镍间均匀性 ≤ 3.0% 3、铟锡镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 3-1、铟锡片阻 ≤ 3.8Ω/sq 3-2、铟锡片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 3-3、铟锡片间均匀性 ≤ 3.0% 4、 金镀成膜速率 ≥ (略)?/sec 4-1、金片阻 ≤ 2.7Ω/sq 4-2、金片内电阻均匀性 ≤ (略).0% 4-3、金片间均匀性 ≤ 3.0%

1

包2 干法刻蚀设备/干法去胶设备,采购预算:(略)

序号

设备

技术参数

单位

数量

名称

配置要求

工艺要求

4

干法去胶 设备

1、设备要求:(略)

1、去胶速率 >(略),(略)?/min; 2、片内均匀性 ≤ 5.0%; 片间均匀性 ≤ 5.0%; 批间均匀性 ≤ 5.0%;

1

三、其他补充事宜

四、凡对本次公告内容提出询问,请按以下方式联系。

1.采购人信息

名称:(略)

地址:(略)

联系方式:(略)

2.采购代理机构信息

名称:(略)

地址:(略)

联系方式:(略)

3.项目联系方式

项目联系人:(略)

电话:(略)

4.监督机构

名称:(略)

联系人:(略)

地址:(略)

联系方式:(略)

发布人:(略)

发布时间:(略)

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