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总建筑面积为40000 平方米浙江杭州半导体芯片生产基地二期工程项目 (进展1)

2010-11-18 未确定 1 亿

项目描述

项目描述 一项综合发展,总建筑面积为70,567平方米,包括:
*24层高的办公楼,设有单层高的地下室
*厂房
备注:该项目的设计于2006年已经完成,相关设计师都已经离职。
项目地址 登录注册后查看
开工日期 登录注册后查看
竣工日期 登录注册后查看

跟进记录

更新日期 跟进阶段 跟进沟通细节
2010-11-18 跟进1 登录注册后查看

项目详情

工程类型: 登录注册后查看 大型项目 登录注册后查看
项目类别
开工日期 ****年**月 竣工日期 ****年**月
建筑面积 40000 平方米 占地面积 暂未确定
预计成本 1 亿 建筑层数 登录注册后查看
业主类型 政府 外资参与 登录注册后查看
外墙材料 登录注册后查看 钢结构 登录注册后查看
装修情况 登录注册后查看 电梯情况 登录注册后查看
空调情况 登录注册后查看 供暖方式 登录注册后查看

项目地址

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