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总建筑面积为212471 平方米武汉.中国光谷文化创意产业园(A、B、C、F、G地块)建设项目 (进展1)

2015-03-03 主体工程中标/开工

项目描述

项目描述 本项目规划总用地面积208183.51m2,总建筑面积212471.25m2,容积率为1.50,绿化率为20%,总机动停车位1730辆(其中地面车位885辆、地下车位845辆)。项目主要建设多层、高层研发楼,展厅,SOHO居住-办公楼、宿舍楼及其配套用房等,包括5个功能地块(由南向北依次为A#地块-总部Ⅰ区、B#地块-加速器区、C#地块-孵化器区、F#地块-物业后勤配套区、G#地块-后勤区),分四期工程(一期工程(F地块)、二期工程(B地块和C地块)、三期工程(A地块)、四期工程(G地块))开发建设。
项目施工期共计68个月,预计从2013年4月开工,至2018年12月竣工。
项目地址 登录注册后查看
开工日期 登录注册后查看
竣工日期 登录注册后查看

跟进记录

更新日期 跟进阶段 跟进沟通细节
2015-03-03 跟进1 登录注册后查看

项目详情

工程类型: 登录注册后查看 大型项目 登录注册后查看
项目类别 登录注册后查看
开工日期 ****年**月 竣工日期 ****年**月
建筑面积 212471 平方米 占地面积 208183 平方米
预计成本 暂未确定 建筑层数 登录注册后查看
业主类型 商业 外资参与 登录注册后查看
外墙材料 登录注册后查看 钢结构 登录注册后查看
装修情况 登录注册后查看 电梯情况 登录注册后查看
空调情况 登录注册后查看 供暖方式 登录注册后查看

项目地址

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